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铝氧化

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产品详情

铝氧化工艺流程的前两个步骤如下:

一、上料。1、型材上料前将动臂接触面打磨干净,按标准支数上料。2、上架支数的考虑原则:a、硅机容量利用率在95%以下;b、电流密度为1.0—1.2A/dm。c、在型材的形状和两根型材之间留下必要的间隙。3、铝氧化时间的计算:氧化时间(t)=膜厚k·电流密度。k为电解常数,为0.26—0.32,t单位为分钟。为了便于排液和排气,上排结束时倾斜,倾斜5度为宜。两端不得超过导电杆10—20mm,最大不得超过50mm。

二、低温研磨。1、槽中的低温研磨剂浓度控制在总酸25—30g/l、最低15g/l;温度必须在20摄氏度以上;研磨时间为90~200s。2、提架倾斜,滴下残液后,迅速放入清水槽漂洗,经过两次水洗后迅速氧化。低温研磨材料在研磨前不能进行其它方式的处理,也不能将其它槽液带入研磨槽。

以上就是铝氧化工艺流程的前两个步骤介绍,感谢阅读。


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